Pat

J-GLOBAL ID：200903093457931186

舌苔除去剤

Inventor： 石川 正夫
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995199197
Publication number (International publication number)：1997025221
Application date： Jul. 12, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 口臭発生の主原因部位である舌苔を化学的に除去でき、これにより長時間口臭を抑制することができる舌苔除去剤を得る。【解決手段】 N-アセチルムラミダーゼ、ムタノリシン、リゾチーム、レバナーゼ及びリパーゼから選ばれる酵素とベタイン型、N-アシルタウリン型、メチルグルコシルエステル型、ジアルキルスルホコハク酸型及びモノアシルリン酸型の界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上とを併用する。

Claim (excerpt)：

N-アセチルムラミダーゼ、ムタノリシン、リゾチーム、レバナーゼ及びリパーゼから選ばれる酵素と、ベタイン型、N-アシルタウリン型、メチルグルコシルエステル型、ジアルキルスルホコハク酸型及びモノアシルリン酸型の界面活性剤から選ばれる1種又は2種以上とを併用してなることを特徴とする舌苔除去剤。

IPC (3)：

A61K 7/28 ,  A23G 3/30 ,  A61K 9/00

FI (3)：

A61K 7/28 ,  A23G 3/30 ,  A61K 9/00 V