露光方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993042426
Publication number (International publication number)：1994260391
Application date： Mar. 03, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】スリットスキャン露光方式で露光を行う際に、スループットを低下させることなく正確に焦点合わせ及びレベリングを行った状態で露光を行う。【構成】レチクルブラインド5で制限されるレチクル3のパターンが投影光学系9を介して露光領域11に投影され、レチクル3の走査に同期して露光領域11に対してウエハ10を走査することにより、レチクル3の全パターンをウエハ10上に露光する。ウエハ10上の被露光部の複数箇所の高さを多点フォーカス位置検出装置19により先読みし、この結果算出される高さ及び傾きに基づいて、その被露光部が露光領域11に達したときにZレベリングステージ12で設定される高さ及び傾きを制御する。

Claim (excerpt)：

露光光でスリット状の照明領域を照明し、該スリット状の照明領域に対して転写用のパターンが形成されたマスクを走査すると共に、前記スリット状の照明領域を投影光学系で投影したスリット状の露光領域に対して前記マスクと同期して基板ステージ上の感光基板を走査することにより、前記マスクのパターンを前記感光基板上に露光する方法において、前記マスク及び前記感光基板の同期した走査を開始した後、前記スリット状の露光領域から前記走査の方向と逆の方向に所定間隔だけ離れた前記感光基板上の被露光領域の高さと前記投影光学系の像面の高さとの差分を検出すると共に、前記感光基板が載置された前記基板ステージで設定されている高さを検出し、前記被露光領域が前記スリット状の露光領域内に達した際に、前記基板ステージで設定する高さを、前記検出された高さに前記検出された差分を加えた高さに設定することにより、前記被露光領域の高さを前記投影光学系の像面の高さに合わせ込むようにしたことを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平4-277612
特開昭62-122215
特開平4-350925

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