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J-GLOBAL ID：200903093466866290

電子ビーム照射によるポリマー組成物の製造方法

Inventor： アルベルト・フオルナーロ
Applicant, Patent owner： シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー
Agent (1)： 川口 義雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992152365
Publication number (International publication number)：1993230228
Application date： Jun. 11, 1992
Publication date： Sep. 07, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 耐摩耗性とロスフレックス性能とが改善され、また他の特性をそれほど損なわないエラストマー組成物、及びこれらの組成物からの履物の製造方法を提供する。(a) ポリ(ビニル芳香族化合物)を主成分とする少なくとも1個のブロックと、ポリ(共役ジエン)を主成分とする少なくとも1個のブロックとを含む30〜60重量%の量の線状ブロックコポリマーと、(b) 前述した如きブロックコポリマーと混和性がある10〜50重量%の量の熱可塑性ポリマーと、(c) 20〜40重量%の量の非芳香族油とからなる組成物に対して1.0〜4.5MeVのエネルギー強さで、50〜400kGyの範囲の線量で電子ビーム照射を実施する電子ビーム照射によるゴム状組成物の製造方法。

Claim (excerpt)：

(a) ポリ(ビニル芳香族化合物)を主成分とする少なくとも1個のブロックと、ポリ(共役ジエン)を主成分とする少なくとも1個のブロックとを含む、組成物全体の重量に対して30〜60重量%の量の線状ブロックコポリマーと、(b) 前述した如きブロックコポリマーと混和性がある、組成物全体の重量に対して10〜50重量%の量の熱可塑性ポリマーと、(c) 組成物全体の重量に対して20〜40重量%の量の非芳香族油と、を含む組成物に対して1.0〜4.5MeVのエネルギー強さで、50〜400kGyの範囲の線量で電子ビーム照射を実施することを特徴とする、電子ビーム照射によるポリマー組成物の製造方法。

IPC (4)：

C08J 3/28 CEQ ,  C08L 53/02 LLX ,  C08L 91/00 LSJ ,  C08L101/00 LSZ