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J-GLOBAL ID:200903093493837900

液晶用マトリクス基板およびその製造方法ならびにコンタクトホール形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西教 圭一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000290730
Publication number (International publication number):2002098994
Application date: Sep. 25, 2000
Publication date: Apr. 05, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高開口率の液晶表示装置を、少ないフォトマスクを使用して製造する。【解決手段】 TFTアクティブマトリクス基板としての主要部分を形成した後に、表面に感光性アクリル系樹脂膜10を塗布して平坦化する。その上に撥水性フッ素系樹脂11を塗布し、ハーフトーン露光を利用し、感光性アクリル系樹脂膜10をエッチングする。凹所10aは、部分的に硬化するように露光される部分に対応し、コンタクトホール10bは未硬化となるように露光される部分に対応する。塗布型透明導電材を塗布すると、撥水性フッ素系樹脂11が残存している部分には付着しない。凹所10aの部分に形成される塗布型透明導電膜12は、画素電極として利用することができ、ゲート電極膜2と立体的にオーバーラップさせることができる。
Claim (excerpt):
複数の液晶セルを形成するためのマトリクス回路が電気絶縁性基板上に形成される液晶用マトリクス基板において、マトリクス回路上を平坦に覆うように電気絶縁性合成樹脂材料で形成され、該画素電極形成領域には凹所が形成され、さらに該凹所内に該マトリクス回路まで貫通するコンタクトホールが形成される電気絶縁膜と、電気絶縁膜の凹所およびコンタクトホール内に充填される導電材とを含むことを特徴とする液晶用マトリクス基板。
IPC (6):
G02F 1/1368 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/768 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336
FI (6):
G03F 7/20 501 ,  H01L 21/312 D ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/90 A ,  H01L 29/78 612 D ,  H01L 29/78 616 J
F-Term (49):
2H097BB01 ,  2H097FA02 ,  2H097LA12 ,  5F033HH08 ,  5F033HH17 ,  5F033HH21 ,  5F033HH38 ,  5F033JJ01 ,  5F033JJ08 ,  5F033JJ17 ,  5F033JJ21 ,  5F033JJ38 ,  5F033KK05 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ37 ,  5F033RR06 ,  5F033VV15 ,  5F033XX33 ,  5F058AA06 ,  5F058AB04 ,  5F058AB07 ,  5F058AC07 ,  5F058AC10 ,  5F058AF04 ,  5F058AH02 ,  5F110AA16 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE44 ,  5F110FF03 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK09 ,  5F110HK21 ,  5F110HL07 ,  5F110HL14 ,  5F110HL22 ,  5F110HM18 ,  5F110NN03 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN34 ,  5F110QQ02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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