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J-GLOBAL ID：200903093499107700

化学励起酸素-沃素レーザー装置

Inventor： ヨゼフ シユミードベルガー ,  ヤルミラ コデイモバ ,  ジリ コバー ,  オトマール スパレク ,  パベル トレンダ
Applicant, Patent owner： 財団法人応用光学研究所
Agent (1)： 役 昌明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991289470
Publication number (International publication number)：1993102568
Application date： Oct. 09, 1991
Publication date： Apr. 23, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 出力されるレーザー光線の調整、変調、遮断が容易な化学励起酸素-沃素レーザー装置を得る。【構成】 1重項励起酸素を通過させるダクト1と、このダクト1内のレーザー活性領域においてレーザー作用をする沃素蒸気を注入する沃素注入器6と、活性領域に配置された光学共振器3とを備え、レーザー活性領域に磁界を作用させる磁界源2を設けて、利得が閾値もしくは閾値以下になる範囲で、磁界の強度を種々に変化させて、レーザー出力の調整、変調、遮断を行なうように構成した。

Claim (excerpt)：

1重項励起酸素を通過させるダクトと、該ダクト内のレーザー活性領域においてレーザー作用をする沃素蒸気を注入する沃素注入器と、上記活性領域に配置された光学共振器とを備え、上記レーザー活性領域に磁界を作用させる磁界源を設けたことを特徴とする化学励起酸素-沃素レーザー装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-249390
  
• 特公昭43-024590
  
• 特開昭56-046590