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J-GLOBAL ID：200903093509460381

液晶デバイスの製造方法

Inventor： 熊谷 明夫 ,  栗山 毅 ,  小川 洋
Applicant, Patent owner： 大日本インキ化学工業株式会社
Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991344805
Publication number (International publication number)：1993173117
Application date： Dec. 26, 1991
Publication date： Jul. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】 液晶材料の連続層中に透明性固体物質が分散して成る調光層を有する液晶デバイスの製造方法において、少なくとも一方の基板が短波長紫外線を透過を抑制する層を有する基板を用いてセルを作成することにより、デバイスに耐光性を付与する。【構成】 電極付き基板の電極層と反対面に紫外線と透過を抑制する遮断塗料を塗布、あるいは紫外線の透過を抑制するフィルムを貼合、あるいは紫外線の透過を抑制するフィルムを挟み込んだ合わせガラスを用いて空セルを作成し耐光性を付与する。

Claim (excerpt)：

電極層を有する少なくとも一方が透明な2枚の基板から成る空セル中に、液晶材料、重合性組成物及び重合開始剤を含有する調光層形成材料を介在させ、活性光線を照射することによって前記重合組成物を重合させることにより液晶材料の連続層中に透明性高分子物質による三次元網目状構造を形成して成る液晶デバイスの製造方法において、少なくとも一方の基板が短波長紫外線の透過を抑制する層を有することを特徴とする液晶デバイスの製造方法。

IPC (5)：

G02F 1/1333 ,  F21V 9/10 ,  G02B 5/22 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500