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J-GLOBAL ID：200903093512764758
固体電解質膜を用いる水素の製造方法
Inventor：
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,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998134285
Publication number (International publication number)：1998297902
Application date： Apr. 30, 1998
Publication date： Nov. 10, 1998
Summary：
【要約】【課題】 酸素イオン輸送に基づく合成ガス製造と、パラジウム若しくはパラジウム合金基をとするもの又はプロトン輸送膜のような水素輸送膜を用いる水素分離との一体化のためのプロセスを提供すること。【解決手段】 圧縮され且つ加熱された酸素含有ガス混合物を、少なくとも一つの固体電解質酸素イオン輸送膜を有する反応器に通して透過した酸素を分離し、この酸素を有機燃料と反応させて合成ガスを生成させ、得られた合成ガスを同じ又は別の分離器中で、少なくとも一つの固体電解質水素輸送膜を通して水素ガスに分離し、輸送された水素を分離することによって、合成ガス及び水素を製造する方法。
Claim (excerpt)：
(a)圧縮され且つ加熱された酸素含有ガス混合物を、少なくとも一つの固体電解質酸素イオン輸送膜を含み且つ該酸素イオン輸送膜によって隔てられた第一帯域及び第二帯域を有する酸素反応器の第一帯域中に通し、その際に、前記混合物中の酸素の少なくとも一部が前記第一帯域から前記酸素イオン輸送膜を通って前記第二帯域に輸送されて、ガス相有機燃料を含有するパージ流と反応させるための第一の透過物流を生じさせると共に、前記第一帯域から酸素が枯渇した保留物流を流出させる工程;(b)前記パージ流を前記第二帯域中に通して、前記の輸送された酸素と反応させて前記の第一の透過物流中に合成ガスを生成させる工程;(c)前記の第一の透過物流を少なくとも一つの水素輸送膜と接触させて高純度水素透過物及び水素が枯渇した合成ガス保留物を生じさせる工程;並びに(d)前記高純度水素透過物を水素ガス流製品として取り出す工程:を含む、水素ガス及び合成ガスの製造方法。
IPC (4)：
C01B 3/36
, B01D 53/22
, B01D 53/32
, B01J 12/00
C01B 3/36
, B01D 53/22
, B01D 53/32
, B01J 12/00
Cited by examiner (10)
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