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J-GLOBAL ID：200903093516684694

階調マスク及びその製造方法

Inventor： 中村洋之 ,  林 直也
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993195962
Publication number (International publication number)：1995049410
Application date： Aug. 06, 1993
Publication date： Feb. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 正確に、効率的に、かつ、安価に製造することができる透過率が段階的に変化する階調マスク。【構成】 透過率が実質的に0%と100%を含む3段階以上に空間的に段階的に変化する階調マスクであって、透明基板11上にクロム化合物12を透過率が0%になる膜厚で均一に成膜する工程と、所定部分領域cのクロム化合物膜12をエッチングにより除去する工程と、残ったクロム化合物膜の所定部分領域bの膜厚を中間の所定透過率になる膜厚にエッチングする工程とを含む製造方法により作製する。

Claim (excerpt)：

透過率が実質的に0%と100%を含む3段階以上に空間的に段階的に変化する階調マスクにおいて、透過率の段階的な調整が透明基板上に設けた均一なクロム化合物の膜厚変化によって行われていることを特徴とする階調マスク。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• カラーフイルターの製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-298937   Applicant：日本石油株式会社
• 特開昭60-004943
  
• 特開平2-012203