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J-GLOBAL ID：200903093564480073

アクティブマトリクス基板の製造方法

Inventor： 錦 博彦 ,  山本 明弘 ,  大上 裕之
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998148014
Publication number (International publication number)：1999337973
Application date： May. 28, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】 絵素電極と有機絶縁膜との密着性をより良好にする高開口率アクティブマトリクス基板の製造方法を提供する。【解決手段】 アクティブマトリクス基板の製造方法は、スイッチング素子と配線とを覆う有機絶縁膜を形成した後、絵素電極を形成する前に、有機絶縁膜の表面をN2ガスを用いてプラズマ処理する工程を包含する。

Claim (excerpt)：

基板上に複数のスイッチング素子を形成する工程と、該スイッチング素子に信号を印加するための配線を形成する工程と、該スイッチング素子と該配線とを覆う有機絶縁膜を形成する工程と、該有機絶縁膜にコンタクトホールを形成する工程と、該有機絶縁膜の表面をN2ガスを用いてプラズマ処理する工程と、該プラズマ処理された該有機絶縁膜の表面上に、該コンタクトホールを介して該スイッチング素子と電気的に接続される該絵素電極を形成する工程と、を包含する、アクティブマトリクス基板の製造方法。

IPC (2)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1343

FI (2)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/1343