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J-GLOBAL ID：200903093583104856
パウダービームエッチングの方法及びこの方法を用いて加工したポリゴンミラー
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高橋 光男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992101408
Publication number (International publication number)：1993293758
Application date： Apr. 21, 1992
Publication date： Nov. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】パウダービームをパターンマスク上から、被加工物の表面に高速噴射してエッチングを施し、微細加工においても超精密な加工を施せるようにする。【構成】所定の厚みを有する被加工物5の表面に中心穴7と正多角形突条8を同一なる軸線9で形成したパターンマスク4を被せ、このパターンマスク4上からパウダービーム11を高速噴射させることにより、この被加工物5にエッチングを施し、これら中心穴7と正多角形12の立体形状を同時に形成する方法である。及び、この方法を用い加工して、ポリゴンミラーを得る。
Claim (excerpt)：
所定の厚みを有する被加工物の表面に中心穴と正多角形を同一なる軸線で形成したパターンマスクを施し、該パターンマスク上からパウダービームを高速噴射させることにより、前記被加工物にエッチングを施し、前記中心穴と正多面体の立体形状を同時に形成したことを特徴とするパウダービームエッチングの方法。
IPC (2)：
B24C 1/04
, G02B 26/10 102
