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J-GLOBAL ID：200903093600806916

ケイ光体粒子サイズコントロール用の改良されたフラックス

Inventor： デイビツド・ブルース・ヘドン ,  ウイリアム・ジエイ・ゼガルスキー
Applicant, Patent owner： イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
Agent (1)： 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993314591
Publication number (International publication number)：1994228543
Application date： Dec. 15, 1993
Publication date： Aug. 16, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】a)1つ以上のアルカリ金属硫酸塩1〜99重量%;b)1つ以上のアルカリ金属メタホウ酸塩1〜99重量%;およびc)1つ以上のストロンチウムハロゲン化物0〜50%から構成される、ケイ光体粒子の製造に使用するフラックス組成物。また本フラックスを使用するケイ光体の製作方法、およびこのケイ光体を含有するX線増感スクリーン。【効果】このフラックス組成物中のメタホウ酸塩とストロンチウムハロゲン化物の濃度を変えることにより、ケイ光体粒子のサイズと乾燥見掛け密度およびケイ光体のスピードとをそれぞれ制御できる。

Claim (excerpt)：

a) 少なくとも1つのアルカリ金属硫酸塩1〜99重量%;b) 少なくとも1つのアルカリ金属メタホウ酸塩1〜99重量%;およびc) 少なくとも1つのストロンチウムハロゲン化物0〜50重量%から構成される、ケイ光体粒子の製造に使用するフラックス組成物。

IPC (4)：

C09K 11/02 ,  C09K 11/00 ,  C09K 11/78 CPB ,  G03C 5/17