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J-GLOBAL ID：200903093602260520

超微粒子の成膜,成形方法及びその装置

Inventor：
明渡 純

About 明渡 純


Applicant, Patent owner：
工業技術院長

About 工業技術院長


Agent (1)： 工業技術院機械技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997174048
Publication number (International publication number)：1999021677
Application date： Jun. 30, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：
【要約】【課題】簡単な構成で不要な粒径の超微粒子を除去する超微粒子の成膜,成形方法及びその装置を提供する。【解決手段】超微粒子分級装置11,12を超微粒子の搬送路の途中に配設するか或いは超微粒子の発生装置の後方に配設することによって、均質な超微粒子のみを被膜や薄膜或いは成形品の原料とする。
Claim (excerpt)：
エアロゾル中の超微粒子を粒径に応じて分級した超微粒子の堆積方法であって、上記エアロゾルの流れと対面するように遮蔽板を設けて、該遮蔽板に上記エアロゾルを吹き付けることにより、上記エアロゾル中の特定の粒径以上の超微粒子を上記遮蔽板上に堆積させて除去することによって、上記特定の粒径未満の超微粒子のみを分級して成膜することを特徴とする超微粒子の成膜方法。
IPC (4)：
C23C 24/04 ,  B01J 19/00 ,  B05D 1/00 ,  B22F 1/00
FI (4)：
C23C 24/04 ,  B01J 19/00 K ,  B05D 1/00 ,  B22F 1/00 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 気流分級装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-019428   Applicant：日鉄鉱業株式会社
  • 気流分級機
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-165654   Applicant：日本ニユーマチツク工業株式会社

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