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J-GLOBAL ID:200903093625006493
有機結晶付基板作製装置及び有機結晶付基板作製方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
丸山 隆夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004210706
Publication number (International publication number):2006027968
Application date: Jul. 16, 2004
Publication date: Feb. 02, 2006
Summary:
【課題】 有機結晶を任意の厚さに制御した有機結晶付基板製造装置及び有機結晶付基板製造方法を提供する。【解決手段】 結晶作製基板上の所定の間隔を有する密閉空間内に結晶が溶解した溶液を循環させることにより、任意の厚さの有機結晶を直接形成することができるので、有機結晶を任意の厚さに制御した有機結晶付基板を得ることができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
有機結晶が溶解した溶液の温度を制御する温度差法を用いることにより結晶作製基板上に膜状の有機結晶を作製する有機結晶付基板作製装置において、
前記結晶作製基板が載置される温度調整モジュールと、
前記結晶作製基板上に載置され前記結晶作製基板との間に所定の間隔を有する密閉空間を形成するセルモジュールと、
前記温度調整モジュールに一端が固定され他端が前記セルモジュールを着脱自在に保持する保持手段と、
前記セルモジュールに形成され前記密閉空間に連通する供給部に接続された流路を介して前記密閉空間内に前記溶液を供給する供給手段とを備えたことを特徴とする有機結晶付基板作製装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (10):
4G077AA02
, 4G077AA03
, 4G077BF10
, 4G077CB01
, 4G077CB08
, 4G077ED04
, 4G077EE01
, 4G077EG16
, 4G077EG22
, 4G077HA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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有機化合物薄膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-151984
Applicant:シャープ株式会社
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有機化合物単結晶薄膜製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-345112
Applicant:シャープ株式会社
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有機単結晶薄膜の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-338443
Applicant:積水化学工業株式会社
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有機光学単結晶の清浄方法及び有機光学単結晶
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-220588
Applicant:大阪大学長
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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Organic thin film crystal growth for nonlinear optics:present methods and exploratory developments
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