テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシド含有廃液の処理方法および電子部品用現像液

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：本多小平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994121005
Publication number (International publication number)：1995328642
Application date： Jun. 02, 1994
Publication date： Dec. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドおよびフォトレジストを含有する廃液を、効率よく処理し、テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドを回収する方法を提供する。【構成】テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドおよびフォトレジストを含有する廃液を電気透析し、テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドを濃縮分離することを特徴とするテトラアルキルアンモニウムヒドロオキシド含有廃液の処理方法。

Claim (excerpt)：

テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドおよびフォトレジストを含有する廃液を電気透析し、テトラアルキルアンモニウムヒドロオキシドを濃縮分離することを特徴とするテトラアルキルアンモニウムヒドロオキシド含有廃液の処理方法。

IPC (4)：

C02F 1/469 , B01D 61/44 ZAB , B01D 61/44 500 , C02F 1/46 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

ポジ型フォトレジスト現像液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-069294 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社

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