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J-GLOBAL ID：200903093682979465

スタンパ製造方法

Inventor： 古木 基裕
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 野田 茂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001386948
Publication number (International publication number)：2003187503
Application date： Dec. 20, 2001
Publication date： Jul. 04, 2003
Summary：

【要約】【課題】 フォトレジストを露光後に現像する工程を省略して表面粗さが少なく、ノイズが軽減された光ディスクのマスタスタンパを製造する。【解決手段】 フォトレジストやホログラフィに用いられる有機ドライフィルムを光ディスクガラス原盤に約100nmから500nm塗布し、257nmAr倍波、266nmYAG第四高調波、351nmArレーザ、413nmKrレーザなどからのCWレーザを用いて光ディスク原盤を露光する。この露光処理により、レーザ露光された部分のポリマのみが収縮し、微細凹凸パターンが形成される。その後、現像過程を経ずに、この微細凹凸パターンが形成された原盤上に、無電解ニッケルメッキまたはニッケルスパッタリング等により導電膜を約50nm形成し、電柱ニッケルメッキにて約300μmの厚みになるようにスタンパを作製する。

Claim (excerpt)：

露光処理によって体積収縮する物質材料を用い微細凹凸パターンを形成する工程と、上記微細凹凸パターンに導電膜を形成する工程と、上記導電膜上に金属メッキを行う工程と、を有することを特徴とするスタンパ製造方法。

IPC (8)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 505

FI (8)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 505

F-Term (23)：

2H025AB20 ,  2H025AC03 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H049AA33 ,  2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049AA57 ,  2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097CA15 ,  2H097CA16 ,  2H097CA17 ,  2H097FA03 ,  2H097FA10 ,  2H097LA20 ,  5D121BA03 ,  5D121BB21 ,  5D121BB40 ,  5D121CB06