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J-GLOBAL ID：200903093713148966

粒子薄膜形成方法

Inventor： 町田 義則
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998294292
Publication number (International publication number)：2000117097
Application date： Oct. 15, 1998
Publication date： Apr. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 簡単かつ安全な方法で、粒子の密度が均一で、かつ高密度な粒子薄膜を、高速に形成し得る粒子薄膜の形成方法を提供することである。【解決手段】 表面に粒子1が浮揚している液体2に振動を作用させ、粒子1を液体の表面に展開し、液体2の表面に粒子1からなる薄膜を形成する粒子薄膜形成方法である。また、超音波振動を液体に作用させることにより、あるいは、液体内部から表面に向かう流れを発生させることにより、液体の表面の一部を隆起させ、粒子を液体の表面に展開し、液体の表面に粒子薄膜を形成する薄膜形成方法である。

Claim (excerpt)：

表面に粒子が浮揚している液体に振動を作用させ、粒子を液体の表面に展開して、粒子からなる薄膜を液体の表面に形成する工程を含む粒子薄膜形成方法。

IPC (5)：

B01J 19/00 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/10 ,  B05D 1/20 ,  C08J 5/18

FI (5)：

B01J 19/00 K ,  B01J 19/08 G ,  B01J 19/10 ,  B05D 1/20 ,  C08J 5/18

F-Term (19)：

4F071AA01 ,  4F071AA22 ,  4F071AD02 ,  4F071AH12 ,  4F071AH19 ,  4F071BA01 ,  4F071BB13 ,  4F071BC01 ,  4G075AA24 ,  4G075BB08 ,  4G075BB10 ,  4G075CA14 ,  4G075CA18 ,  4G075CA23 ,  4G075EB01 ,  4G075ED15 ,  4G075ED20 ,  4G075FB04 ,  4G075FB12