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J-GLOBAL ID：200903093806975617

露光装置

Inventor： 石井 勇樹
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 飯塚 雄二 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996047941
Publication number (International publication number)：1997218518
Application date： Feb. 09, 1996
Publication date： Aug. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】 マスクの照明領域を高速で調整可能な露光装置を提供すること。【解決手段】 露光光の少なくとも一部を遮光するために複数の異なる形状の開口(18a〜18h)を有し、回転可能な遮光手段(18)を備える。遮光手段(18)は、レンズ系によってマスク(20)とをほぼ共役な位置に配置する。制御手段(22、24)により、遮光手段(18)を回転駆動して、複数の開口(18a〜18h)の1つを露光光の光路に挿入し、露光光の照射領域を設定する。

Claim (excerpt)：

パターンが形成されたマスクに露光光を照射する照射手段と、前記マスクを透過した前記露光光を基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において、前記露光光の少なくとも一部を遮光するために複数の異なる形状の開口を有し、回転可能な遮光手段と;前記遮光手段と前記マスクとをほぼ共役な位置にするレンズ系と;前記遮光手段を回転駆動して、前記複数の開口の1つを前記露光光の光路に挿入し、前記露光光の照射領域を設定する制御手段とを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/30 515 E