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J-GLOBAL ID：200903093840449487
フォトレジストの形状の予測方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991184765
Publication number (International publication number)：1994045424
Application date： Jul. 24, 1991
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】 現像後のフォトレジストの形状の予測方法を提供する。【構成】 現像後のレジストの形状をコンピュータ等を用いて予測する場合に、レジストを分割してレジストの各部分での光の結像強度を計算し、露光量を変えてレジストの深さ方向に対する現像速度を実験値より求めてレジストの深さ方向の位置に対する溶解(現像)速度の曲線図を作成し、その図から光の結像強度に対応した露光量における溶解速度を求めて、2次元の現像速度分布図を作成してレジストの形状を予測する。【効果】 レジストの深さ方向の光の結像強度の変化に対応するため、光の焦点がレジストの表面からずれた場合でも図9に示すように正確にレジストの形状を予想することができる。
Claim (excerpt)：
現像後のフォトレジストの形状をコンピュータ等を用いて予測する場合に、レジストの各部分での光の結像強度を計算し、露光量を変えてレジストの溶解(現像)速度を実験値より求め、光の結像強度と溶解速度とを組み合わせることによってレジストの各部分の溶解速度を求め、その溶解速度から形状を求めることを特徴とする、フォトレジストの形状の予測方法。
IPC (3)：
H01L 21/66
, G01B 11/06
, G03F 7/26 501
Cited by examiner (8)
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