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J-GLOBAL ID：200903093841251877

偏光解析装置

Inventor： 矢作 保夫 ,  尾形 潔 ,  東 和文 ,  江澤 正義
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995016679
Publication number (International publication number)：1996210972
Application date： Feb. 03, 1995
Publication date： Aug. 20, 1996
Summary：

【要約】【構成】偏光子3と検光子6と検出器8,23を備える回転検光子法偏光解析装置において、高開口数を持つ対物レンズ4及び二波長以上の光源1,11,12,13を備えている。二次元検出器で検光子を通過した光の強度を検出し、光線の試料に対する同時多角入射として解析する。【効果】従来よりも高い二次元空間分解能と高い角度分解能及び高い測定精度で偏光解析法に基づく測定が可能となった。

Claim (excerpt)：

光源と、前記光源から出された光を透過する偏光子と、前記偏光子を透過した光を、ほぼ半円部分に透過させ、試料に集束、反射光を生じさせ、前記反射光が他のほぼ半円部分に透過するレンズと、前記レンズを透過した光を透過する検光子と、前記検光子を透過した光を所定の入射角毎の光の強度を検出する複数の検出素子と、前記検出素子を有する検出器と、前記検出器で得られた入射角毎の光の強度から試料の厚さ、光学特性値を算出する算出部とからなることを特徴とする偏光解析装置。

IPC (4)：

G01N 21/21 ,  G01B 11/06 ,  G01J 4/04 ,  G01N 21/41