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J-GLOBAL ID：200903093846961627

2軸方延伸微細多孔質膜

Inventor： ウェイ,シャンユン ,  ヘア,チャールズ
Applicant, Patent owner： セルガード エルエルシー
Agent (3)： 大野 聖二 ,  森田 耕司 ,  山田 勇毅
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008556497
Publication number (International publication number)：2009527633
Application date： Feb. 14, 2007
Publication date： Jul. 30, 2009
Summary：

本発明の微細多孔質膜は、乾燥-延伸法によって製造され、ほぼ丸い形状の孔を有し、横方向の引張り強度に対する縦方向に対する引張り強度の比は0.5〜5.0の範囲を有する。前記膜の製造方法は、ポリマーを非多孔質前躯体に押出す工程、及び前記非多孔質前駆体を2軸延伸する工程を含み、前記2軸延伸する工程は、縦方向の延伸および横方向の延伸を含み、前記横方向の延伸は同時に制御される縦方向の緩和を含む。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

微細多孔質膜の製造方法であって、 ポリマーを非多孔質前躯体に押出す工程、及び 前記非多孔質前駆体を2軸延伸する工程を含み、前記2軸延伸する工程は、縦方向の延伸および横方向の延伸を含み、前記横方向の延伸は同時に制御される縦方向の緩和を含むことを特徴とする微細多孔質膜の製造方法。

IPC (1)：

C08J 9/00

FI (2)：

C08J9/00 A ,  C08J9/00

F-Term (17)：

4F074AA16 ,  4F074AA18 ,  4F074AA24 ,  4F074AA26 ,  4F074AA38 ,  4F074AA42 ,  4F074AA57 ,  4F074AA65 ,  4F074AA71 ,  4F074AA87 ,  4F074CA03 ,  4F074CA04 ,  4F074DA02 ,  4F074DA03 ,  4F074DA08 ,  4F074DA14 ,  4F074DA49

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 米国特許6,602,593号明細書
  

Cited by examiner (2)

• 多孔質フイルムの製造方法および多孔質フイルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-099633   Applicant：宇部興産株式会社
• 電池セパレ-タ-用ポリプロピレン微孔質膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-178144   Applicant：セルガード・リミテッド・ライアビリティー・カンパニー