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J-GLOBAL ID:200903093851709081
スルホニルオキシム化合物、それを使用する感放射線性酸発生剤、ポジ型感放射線性樹脂組成物、及びネガ型感放射線性樹脂組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岩見谷 周志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002237135
Publication number (International publication number):2003137860
Application date: Aug. 15, 2002
Publication date: May. 14, 2003
Summary:
【要約】【課題】 遠紫外線等に感応する酸発生剤として有用なスルホニルオキシム化合物、それを使用する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 一般式(1):【化1】[式中、R1は水素原子、アルキル基等;R2はアルキル基等;Xはハロゲン原子;Yは-R3、-CO-R3(R3は水素原子又はアルキル基)等である]で表されるスルホニルオキシム化合物(二量体化していてもいてもよい。)、並びに、該化合物を含有する感放射線性酸発生剤、及び該感放射線性酸発生剤を含む化学増幅型のポジ型又はネガ型の感放射線性樹脂組成物。
Claim (excerpt):
下記一般式(1)【化1】[式中、R1は、水素原子、炭素原子数1〜20の置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基であり、R2は、炭素原子数1〜20の置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基であり、Xはハロゲン原子であり、Yは-R3、-CO-R3基、-COO-R3基、-CONR3R4基、-S-R3基、-SO-R3基、-SO2-R3基、-CN基又は-NO2基であり、Y中のR3及びR4は、独立に、水素原子、炭素原子数1〜20の置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、又は置換若しくは非置換のヘテロアリール基である。ただし、R1、R2及びR3のいずれか2つは互いに結合して、下記式(2-1)、式(2-2)及び式(2-3):【化2】(式中Y”は、前記YからR3基が除かれて形成される単結合又は2価の基である。)に示す環状構造を形成していてもよく、また、前記R1、R2又はYは結合基R1’、R2’又はY’となって、これらを介して、下記式(3-1)、式(3-2)又は式(3-3):【化3】(式中、R1’、R2’又はY’は、それぞれ、別々の分子に属する2個のR1、R2又はYから各1個の原子又は基が解離して生じた残基が結合して形成された形の2価の基である。)に示す二量体を形成していてもよい。]で表されるスルホニルオキシム化合物。
IPC (5):
C07C317/28
, C07C317/30
, C07C317/32
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
FI (5):
C07C317/28
, C07C317/30
, C07C317/32
, G03F 7/004 503 A
, H01L 21/30 502 R
F-Term (18):
2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BF00
, 2H025CB52
, 2H025CC20
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB92
, 4H006TA02
, 4H006TB02
, 4H006TB04
, 4H006TC11
, 4H006TC36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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オキシム誘導体及びその潜在酸としての使用
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-092758
Applicant:チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
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感刺激性組成物及び化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-231536
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-107547
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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オキシム誘導体及び潜在的酸としてのその使用
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-529315
Applicant:チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
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特開昭61-251652
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特開昭60-065072
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