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J-GLOBAL ID:200903093880724952
導電体およびその製造方法
Inventor:
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,
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (4):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008078042
Publication number (International publication number):2009231213
Application date: Mar. 25, 2008
Publication date: Oct. 08, 2009
Summary:
【課題】導電性が良好であるとともに、耐熱性に優れた導電体およびその製造方法を提供する。【解決手段】基板10上に、Nb、Ta、Mo、As、Sb、W、N、F、S、Se、Te、Cr、Ni、Tc、Re、P及びBiからなる群から選ばれる1又は2以上のドーパントが添加された酸化チタンからなる層(Z)が2層以上設けられており、該2層以上のうち少なくとも1層は、チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が0.01〜4原子%である第2層(Z2)12であり、該第2層(Z2)12と基板10との間に、該第2層(Z2)よりも、前記チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が多い第1層(Z1)11が設けられていることを特徴とする導電体。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板上に、Nb、Ta、Mo、As、Sb、W、N、F、S、Se、Te、Cr、Ni、Tc、Re、P及びBiからなる群から選ばれる1又は2以上のドーパントが添加された酸化チタンからなる層(Z)が2層以上設けられており、
該2層以上のうち少なくとも1層は、チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が0.01〜4原子%である第2層(Z2)であり、
該第2層(Z2)と基板との間に、該第2層(Z2)よりも、前記チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が多い第1層(Z1)が設けられていることを特徴とする導電体。
IPC (3):
H01B 5/14
, H01B 13/00
, C23C 14/08
FI (3):
H01B5/14 A
, H01B13/00 503B
, C23C14/08 N
F-Term (20):
4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA48
, 4K029BB02
, 4K029BB10
, 4K029BC09
, 4K029CA02
, 4K029CA06
, 4K029DB20
, 4K029DC34
, 4K029DC39
, 4K029GA01
, 5G307FA01
, 5G307FA02
, 5G307FB01
, 5G307FC06
, 5G307FC09
, 5G323BA02
, 5G323BB05
, 5G323BC03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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国際公開第2006/016608号パンフレット
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透明電極
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-252205
Applicant:三井化学株式会社
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