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J-GLOBAL ID：200903093903100951
位相分布の測定方法及び装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998050014
Publication number (International publication number)：1999230833
Application date： Feb. 17, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：
【要約】【課題】 被検物の位相分布を3次元的に測定する場合、短時間で測定できる方法と装置を提供する。【解決手段】 同一光源1からの可干渉光を、参照はaと、被検物Aを通過する被検波bとの2つの光束に分け、双方の波面を重ねて干渉縞を形成する位相分布の測定方法において、反射ミラー7及び/又は9を角度γだけチルトさせるとともに、これらの反射ミラーを固定した。また、干渉縞の解析にフーリエ変換法を用い、高速化を図っている。
Claim (excerpt)：
同一光源からの可干渉光を基準となる参照波と、被検物を通過する被検波とに分割し、参照波と被検波とを重ねて干渉縞を形成し、上記被検物を屈折率が被検物とほぼ同じ試液内に浸し、被検物を光軸と直交する軸線回りに回転させて各回転位置にて干渉縞強度を計測し、干渉縞強度を解析して透過波面を算出し、該透過波面から被検物の位相分布を測定する方法において、上記参照波と被検波との光路差を常に一定にして計測することを特徴とする位相分布の測定方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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