含フッ素共重合体を用いたポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002010909
Publication number (International publication number)：2003212915
Application date： Jan. 18, 2002
Publication date： Jul. 30, 2003
Summary：

【要約】【課題】真空紫外線から可視域にいたるまで高い透明性を有し、かつ基板への密着性、高い成膜性等を併せ持つ新規な含フッ素共重合体と酸発生剤からなるポジ型レジスト組成物の提供。【解決手段】少なくとも一般式(1)で表されるα位にフルアロアルキル基を有するアクリル系単量体、および一般式(2)で表されるビニルエーテルを必須成分とする含フッ素共重合体および酸発生剤からなることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】

Claim (excerpt)：

少なくとも一般式(1)で表されるα位にフルアロアルキル基を有するアクリル系単量体、および一般式(2)で表されるビニルエーテルを必須成分とする含フッ素共重合体および酸発生剤からなることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1は炭素数1〜4のフルオロアルキル基、R2は水素単独でも良く、またはフッ素原子、ハロゲン原子、酸素原子並びに分岐を含んでも良い炭化水素基または芳香族や脂環式炭化水素を有する環状体であり、R3は、フッ素原子、ハロゲン原子、酸素原子並びに分岐を含んでも良い炭化水素基または芳香族や脂環式炭化水素を有する環状体であって、少なくともR2の一部に酸不安定性基を含有する)。

IPC (4)：

C08F 2/44 , C08F261/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4)：

C08F 2/44 C , C08F261/06 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (34)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA14 , 2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025CB08 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4J011PA90 , 4J011SA78 , 4J011SA79 , 4J011SA83 , 4J011SA84 , 4J011SA87 , 4J011WA01 , 4J026AA37 , 4J026BA05 , 4J026BA06 , 4J026BA08 , 4J026BA24 , 4J026BA25 , 4J026BA44 , 4J026DB06 , 4J026DB11 , 4J026DB12 , 4J026DB32 , 4J026DB36

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭60-042411
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-197475 Applicant：富士通株式会社
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-098228 Applicant：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社

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