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J-GLOBAL ID：200903093913579821

レーザマスクマーカ

Inventor： 山崎 卓 ,  津田 幸宏 ,  森 彰 ,  与四田 孝司 ,  加藤 操
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Agent (1)： 橋爪 良彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993282019
Publication number (International publication number)：1995112285
Application date： Oct. 15, 1993
Publication date： May. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 より高速、かつ、高精度、さらに、1個又は複数個のワークにそれぞれ異なる画像を同時刻印できるレーザマスクマーカを提供する。【構成】 レーザ発振器1からのレーザ光L1を液晶マスク8の画像面82へラスタ照射し、その透過レーザ光L2をワーク表面13へ照射することにより、該ワーク表面13に前記画像を刻印するレーザマスクマーカにおいて、前記液晶マスク8の上流光側画像面82の枠面にレーザ光吸収体81を設けると共に、画像面82からレーザ光吸収体81へ、また、レーザ光吸収体81から画像面82へとレーザ照射光路を適時偏向させる光路偏向手段を備えた。

Claim (excerpt)：

レーザ発振器1からのレーザ光L1を液晶マスク8の画像面82へラスタ照射し、その透過レーザ光L2をワーク表面13へ照射することにより、該ワーク表面13に前記画像を刻印するレーザマスクマーカにおいて、前記液晶マスク8の上流光側画像面82の枠面にレーザ光吸収体81を設けると共に、画像面82からレーザ光吸収体81へ、また、レーザ光吸収体81から画像面82へとレーザ照射光路を適時偏向させる光路偏向手段を備えてなる構成を特徴とするレーザマスクマーカ。

IPC (2)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• レーザー加工機におけるレーザー光遮断装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-280539   Applicant：大阪富士工業株式会社
• 特開平4-238687
  
• 特開平2-268988