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J-GLOBAL ID：200903093954757416
加熱処理装置および加熱処理方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995245624
Publication number (International publication number)：1997092595
Application date： Sep. 25, 1995
Publication date： Apr. 04, 1997
Summary：
【要約】【課題】 加熱処理の際のウエハ面内における膜厚分布の発生を防止し、かつ加熱処理により蒸発した塗布膜からの溶剤が装置外に漏出するのを防止する。【解決手段】 塗布膜が形成されたウエハ40を収容する密閉容器12と、密閉容器11内を加熱する加熱手段13と、密閉容器11を囲むフード14と、フード14内を排気する排気手段15とを備えて加熱処理装置1を構成する。
Claim (excerpt)：
塗布膜が形成されたウエハを加熱処理する装置であって、前記ウエハを収容する密閉容器と、前記密閉容器内を加熱する加熱手段と、前記密閉容器を囲むフードと、該フード内を排気する排気手段とを備えていることを特徴とする加熱処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/38 501
H01L 21/30 567
, G03F 7/38 501
