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J-GLOBAL ID：200903093998262333

ヒドロキシアルキル(メタ)アクリラ-ト・メチル置換ε-カプロラクトン変性物含有組成物の製造方法

Inventor：
遠藤 敏郎

About 遠藤 敏郎


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 三浦 良和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999000735
Publication number (International publication number)：2000198835
Application date： Jan. 05, 1999
Publication date： Jul. 18, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 残留反応物、残留副生物及び残留触媒の量が少量であるヒドロキシアルキル(メタ)アクリラート・メチル置換ε-カプロラクトン変性物含有組成物及びそれらの製造方法を提供する。【解決手段】 ヒドロキシアルキル(メタ)アクリラート1モルに対して、メチル置換ε-カプロラクトンを1〜12モル比で、200ppmよりも少ない触媒、及び1000ppmよりも少ないヒドロキシアルキル(メタ)アクリラートの重合抑制剤の存在下に、酸素濃度を4〜8%に調整した雰囲気中で、100〜140°Cで反応させて、反応性単量体(a)、メチル置換ε-カプロラクトン(b)の残留量0〜10重量%、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリラート(c)の残留量0〜20重量%からなることを特徴とするヒドロキシアルキル(メタ)アクリラート・メチル置換ε-カプロラクトン変性物含有組成物の製造方法。
Claim (excerpt)：
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリラート1モルに対して、メチル置換ε-カプロラクトンを1〜12モル比で、200ppmよりも少ない触媒、及び1000ppmよりも少ないヒドロキシアルキル(メタ)アクリラートの重合抑制剤の存在下に、酸素濃度を4〜8%に調整した雰囲気中で、100〜140°Cで反応させて、下記一般式(1)で示される反応性単量体(a)、メチル置換ε-カプロラクトン(b)の残留量0〜10重量%、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリラート(c)の残留量0〜20重量%(但し、a、b及び/又はcの合計は100重量%であり、bとcとの合計は0ではない)からなることを特徴とするヒドロキシアルキル(メタ)アクリラート・メチル置換ε-カプロラクトン変性物含有組成物の製造方法。【化1】
IPC (6)：
C08G 63/08 ,  C07C 67/03 ,  C07C 67/465 ,  C07C 67/62 ,  C07C 69/54 ,  C07B 61/00 300
FI (6)：
C08G 63/08 ,  C07C 67/03 ,  C07C 67/465 ,  C07C 67/62 ,  C07C 69/54 Z ,  C07B 61/00 300
F-Term (30)：
4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006BA10 ,  4H006BA11 ,  4H006BA32 ,  4H006BA37 ,  4H006BA94 ,  4H006BB60 ,  4H006BC10 ,  4H006BC31 ,  4H006BE30 ,  4H006BN10 ,  4H006KA03 ,  4H039CA66 ,  4H039CH70 ,  4J029AA02 ,  4J029AB01 ,  4J029AB04 ,  4J029AC01 ,  4J029AE17 ,  4J029EG09 ,  4J029FA11 ,  4J029JA061 ,  4J029JB113 ,  4J029JB131 ,  4J029JB171 ,  4J029JB193 ,  4J029JC751 ,  4J029JF321 ,  4J029JF371
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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