Pat

J-GLOBAL ID：200903094001580400

水溶液の処理方法および処理装置

Inventor： クレイトン イヴス ロドヴェイク マリア
Applicant, Patent owner： テクノーション ベスローテン フェンノートシャップ
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997523478
Publication number (International publication number)：2001507274
Application date： Dec. 17, 1996
Publication date： Jun. 05, 2001
Summary：

【要約】本発明は、水溶液中において2個の電極間にパルス電界を発生させて水溶液を処理する方法および装置に関するものである。本発明においては、少なくとも1個の電極を誘電材料層で被覆し、前記装置の作動中前記誘電材料によって前記少なくとも1個の電極を前記水溶液から完全に隔離する。本発明に係るこの手段は、既知装置において許容できる電界強度より著しく高い電界強度の使用を可能にする。酸素含有ガスおよび双極性パルス電界の使用は、本発明に係る方法のさらなる改善をもたらす。

Claim (excerpt)：

水溶液中において2個の電極間にパルス電界を発生させて、水溶液を処理す るに当り、 少なくとも1個の電極を誘電材料層で被覆し、この層により前記少なくとも 1個の電極を前記水溶液から完全に隔離する、ことを特徴とする水溶液の処理 方法。