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J-GLOBAL ID：200903094017853350

高屈折材料形成用組成物およびその硬化体、ならびに高屈折材料形成用組成物の製造方法

Inventor：
金森 太郎

About 金森 太郎

, 
八島 啓介

About 八島 啓介

, 
西川 昭

About 西川 昭


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (4)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006079366
Publication number (International publication number)：2006299251
Application date： Mar. 22, 2006
Publication date： Nov. 02, 2006
Summary：
【課題】耐熱性、耐紫外線性、光透過性に優れ、かつ高い屈折率を有する硬化体が得られるシロキサン系組成物およびその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明に係る高屈折材料形成用組成物は、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化スズ、酸化ニオブおよびこれらの複合体からなる群から選択される少なくとも1種の金属酸化物の微粒子(A)を100重量部、およびシロキサン系縮合物(B)を完全加水分解縮合物換算で20〜400重量部含有する組成物であり、該組成物を硬化して形成された硬化体の25°Cにおける波長400nmの光の屈折率が1.55〜2.20であり、該組成物を硬化して形成された厚さ20μmの硬化膜の波長500〜700nmの光透過率が90%以上である。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化スズ、酸化ニオブおよびこれらの複合体からなる群から選択される少なくとも1種の金属酸化物の微粒子(A)を100重量部、およびシロキサン系縮合物(B)を完全加水分解縮合物換算で20〜400重量部含有する組成物であり、 該組成物を硬化して形成された硬化体の25°Cにおける波長400nmの光の屈折率が1.55〜2.20であり、 該組成物を硬化して形成された厚さ20μmの硬化膜の波長500〜700nmの光透過率が90%以上であることを特徴とする高屈折材料形成用組成物。
IPC (4)：
C08L 83/04 ,  C08L 85/00 ,  C08K 3/22 ,  H01L 33/00
FI (4)：
C08L83/04 ,  C08L85/00 ,  C08K3/22 ,  H01L33/00 N
F-Term (21)：
4H017AA04 ,  4H017AA24 ,  4H017AB15 ,  4H017AC01 ,  4H017AC05 ,  4H017AC07 ,  4H017AC16 ,  4H017AC19 ,  4H017AD06 ,  4H017AE05 ,  4J002CP03W ,  4J002CP05W ,  4J002CP06W ,  4J002CQ03X ,  4J002DE096 ,  4J002DE106 ,  4J002DE136 ,  4J002GJ02 ,  4J002GP00 ,  5F041AA44 ,  5F041DA46
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (17)
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