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J-GLOBAL ID：200903094061523588

ケミカルドライエッチング装置

Inventor： 西脇 英司
Applicant, Patent owner： ローム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994297652
Publication number (International publication number)：1996158073
Application date： Nov. 30, 1994
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ケミカルドライエッチング装置の石英管の損傷を防止する。【構成】 石英管のマイクロ波導入部の内壁にセラミックから成る保護部材を装着する。

Claim (excerpt)：

処理室と、一端が前記処理室に連通され他端が材料ガスを供給する材料ガス供給源に連通された石英管と、前記石英管に接続され該石英管内にマイクロ波を導入するマイクロ波導入部を画成する導波管とを備え、前記石英管の前記マイクロ波導入部にはセラミックから成る保護部材が装着されたことを特徴とするケミカルドライエッチング装置。

IPC (2)：

C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-100186
  
• 特開昭62-031112