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J-GLOBAL ID：200903094065823314

保持装置

Inventor： 青山 正昭 ,  木村 景一
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 佐藤 正年 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991199801
Publication number (International publication number)：1993021584
Application date： Jul. 16, 1991
Publication date： Jan. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高剛性,軽量,高寸法安定性の特性とともに優れた防塵効果を有する保持装置を提供する。【構成】 ウエハホルダWHのウエハ吸着面には、同心円状(又は螺旋状)の環状凸部(ウエハW支持部)1と環状凹部(真空吸着溝)2が一定のピッチで形成されている。各環状凹部2には真空吸着のための吸気孔3が半径方向に並べて形成され、各吸気孔3はウエハホルダWH内部に半径方向に伸びたスリーブ状の孔4と連通している。この孔4に真空源をつなげて減圧すると、ウエハは環状凸部1の上面にならって平坦化矯正される。ウエハホルダWHの少なくともウエハ接触部(望ましくはホルダ全体)はTiC含有Al2 O3 焼結体で構成されており、導電性を有し、焼結体に特有の気孔が少ない。

Claim (excerpt)：

被保持物との接触部分が、共有結合性導電材料を含有するセラミックス焼結体からなることを特徴とする保持装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平1-147839
  
• 特開平2-187915
  
• 特開平1-209739
  
• 特開昭63-093536
  
• 特開平2-030159