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J-GLOBAL ID：200903094065972743

化粧料

Inventor： 島川 一 ,  坂本 不可止 ,  岡西 茂実 ,  土田 幸宏 ,  黒田 章裕 ,  荻野 和男
Applicant, Patent owner： 鐘紡株式会社 ,  出光興産株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993042283
Publication number (International publication number)：1994227944
Application date： Feb. 05, 1993
Publication date： Aug. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 紫外線防御能に富み、透明性が高く、青白さが少ない化粧料を提供することを目的とする。【構成】 チタンテトライソプロポキシド及びポリシロキサンの同時気相加水分解法によって得られる平均粒径7〜40nmの複合化処理アモルファス型超微粒子酸化チタンを配合することを特徴とする化粧料。

Claim (excerpt)：

チタンテトライソプロポキシド、及び化1または化2または化3で示されるポリシロキサンの同時気相加水分解法によって得られる平均粒径7〜40nmの複合化処理アモルファス型超微粒子酸化チタンを配合することを特徴とする化粧料。【化1】(但し、R1 =OCH3 、OC2 H5 、OC3 H7 またはHであり、nの平均値は1〜4である。)【化2】(但し、R2 =OCH3 、OC2 H5 、OC3 H7 またはHであり、mの平均値は3〜8である。)【化3】

IPC (3)：

A61K 7/02 ,  A61K 7/42 ,  C08L 83/06 LRV