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J-GLOBAL ID：200903094074127452

大気圧プラズマによる表面処理法

Inventor： 小駒 益弘 ,  岡崎 幸子 ,  内山 宏
Applicant, Patent owner： イーシー化学株式会社 ,  岡崎 幸子 ,  小駒 益弘
Agent (1)： 小田島 平吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991055701
Publication number (International publication number)：1994041755
Application date： Feb. 28, 1991
Publication date： Feb. 15, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 安価な希釈性気体を用い大気圧下で高度に安定なグロー放電を行わせて、被処理体にプラズマによる表面薄膜形成および/または表面改質を行う大気圧プラズマ表面処理方法。【構成】 容量%で、アルゴン99.99〜95、好ましくは99.99〜99、及び低級脂肪族炭化水素0.01〜5、好ましくは0.01〜1、を含有してなる気体組成物(ただし、合計が100となるものとする)の希釈性気体を用い、大気圧下でプラズマ励起を行って、上部電極1の下部及び下部電極2の上部には誘電体被覆3を貼布し、下部電極2の上部に被処理体4を載置し、希釈性体を流入口5より導入し、流出口6より排出して、被処理体の表面処理を行う、大気圧プラズマによる表面処理法。

Claim (excerpt)：

プラズマ反応装置に反応性気体及び希釈性気体を導入し、大気圧下プラズマ励起を行って、対向する電極の間に位置する被処理体の表面処理を行う表面処理法において、希釈性気体として(イ)アルゴン99.99〜95容量%及び(ロ)低級脂肪族炭化水素0.01〜5容量%を含有してなる気体組成物(ただし、(イ)のアルゴン及び(ロ)の低級脂肪族炭化水素の合計が100容量%となるものとする)を用いることを特徴とする方法。

IPC (4)：

C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/24