膜形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：渡辺望稔 , 三和晴子 , 福島弘薫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003160790
Publication number (International publication number)：2004058049
Application date： Jun. 05, 2003
Publication date： Feb. 26, 2004
Summary：

【課題】高温条件で形成した、および/または、高温処理を施した、結晶性が高い高品質な膜を、プラスチック材料等の非耐熱性の成膜基板に効率よく形成できる膜形成方法を提供する。【解決手段】膜を形成される基板よりも高い耐熱性を有する耐熱性部材の表面に、基板の耐熱温度よりも高温の工程を含む膜形成プロセスで、少なくとも1層の膜を形成した後、基板の耐熱温度未満の温度で、耐熱性部材に形成した膜を基板の表面に転写することにより、前記課題を解決する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

膜を形成される基板よりも高い耐熱性を有する耐熱性部材の表面に、前記基板の耐熱温度よりも高温の工程を含む膜形成プロセスで、少なくとも1層の膜を形成した後、前記基板の耐熱温度未満の温度で、前記耐熱性部材に形成した膜を基板の表面に転写することを特徴とする膜形成方法。

IPC (1)：

B05D1/28

FI (1)：

B05D1/28

F-Term (18)：

4D075AC43 , 4D075AC96 , 4D075CA47 , 4D075DA04 , 4D075DA06 , 4D075DB01 , 4D075DB14 , 4D075DB16 , 4D075DB18 , 4D075DB20 , 4D075DB21 , 4D075DB33 , 4D075DB36 , 4D075DB40 , 4D075DB48 , 4D075DC18 , 4D075DC21 , 4D075DC24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

光学要素および積層体転写シート
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-172058 Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチュアリングコンパニー
特開平4-142517
特開昭59-204542

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