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J-GLOBAL ID：200903094093896440

フォトレジスト組成物

Inventor： 橋本 豊 ,  田中 一義
Applicant, Patent owner： 大日本インキ化学工業株式会社
Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995210641
Publication number (International publication number)：1997054432
Application date： Aug. 18, 1995
Publication date： Feb. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】フォトレジスト組成物の塗布性能、溶液安定性等を向上させる。【解決手段】フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(A)とシリコ-ン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)とポリオキシアルキレン基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(C)との共重合体を含有してなるフォトレジスト組成物に関する。【効果】本発明に係るフォトレジスト組成物は、スピンコ-ト時にフォトレジスト組成物の塗布膜厚の触れやストリエ-ションの発生が無く均一な塗工が可能となる。

Claim (excerpt)：

フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(A)とシリコ-ン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)との共重合体を含有してなるフォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/027 502 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/027 502 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R