フォトレジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995210641
Publication number (International publication number)：1997054432
Application date： Aug. 18, 1995
Publication date： Feb. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】フォトレジスト組成物の塗布性能、溶液安定性等を向上させる。【解決手段】フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(A)とシリコ-ン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)とポリオキシアルキレン基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(C)との共重合体を含有してなるフォトレジスト組成物に関する。【効果】本発明に係るフォトレジスト組成物は、スピンコ-ト時にフォトレジスト組成物の塗布膜厚の触れやストリエ-ションの発生が無く均一な塗工が可能となる。

Claim (excerpt)：

フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレ-ト単量体(A)とシリコ-ン鎖含有エチレン性不飽和単量体(B)との共重合体を含有してなるフォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/027 502 , G03F 7/038 505 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/027 502 , G03F 7/038 505 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-007759 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開昭62-226143
水性現像可能な組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-287802 Applicant：ハーキュリーズ・インコーポレーテッド

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