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J-GLOBAL ID：200903094115821032

光ディスクの案内溝及びピット作製方法

Inventor： 黒田 純夫 ,  守部 峰生 ,  津川 岩雄
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 松本 昂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993306936
Publication number (International publication number)：1995161077
Application date： Dec. 08, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は案内溝及びピットの深さを容易に制御することができ、溝ノイズを低減可能な光ディスクの案内溝及びピット作製方法を提供することを目的とする。【構成】平坦な基板2上に露光放射線に対して第1の感度を有する所定厚さの第1フォトレジスト膜4を形成し、該第1フォトレジスト膜4上に露光放射線に対して透過性を有し且つ現像液に溶解しない所定厚さの中間層6を形成し、該中間層6上に露光放射線に対して前記第1の感度よりも感度のよい第2の感度を有する所定厚さの第2フォトレジスト膜8を形成し、案内溝10を形成すべき部分を第1のパワーで露光し、ピット12を形成すべき部分を第1のパワーよりも大きい第2のパワーで露光し、前記第2フォトレジスト膜8を現像して案内溝10及びピット12部分の第2フォトレジスト膜8を除去し、露光した部分の中間層6をエッチングにより除去し、次いで露光した部分の第1フォトレジスト膜4を現像してピット12部分の第1フォトレジスト膜4を除去するように構成する。

Claim (excerpt)：

平坦な基板(2) 上に露光放射線に対して第1の感度を有する所定厚さの第1フォトレジスト膜(4) を形成し、該第1フォトレジスト膜(4) 上に露光放射線に対して透過性を有し且つ現像液に溶解しない所定厚さの中間層(6) を形成し、該中間層(6) 上に露光放射線に対して前記第1の感度よりも感度のよい第2の感度を有する所定厚さの第2フォトレジスト膜(8) を形成し、案内溝(10)を形成すべき部分を第1のパワーで露光し、ピット(12)を形成すべき部分を第1のパワーよりも大きい第2のパワーで露光し、前記第2フォトレジスト膜(8) を現像して案内溝(10)部分の第2フォトレジスト膜(8) を除去し、露光した部分の中間層(6) を除去し、次いで露光した部分の第1フォトレジスト膜(4) を現像してピット(12)部分の第1フォトレジスト膜(4) を除去する、ステップから構成されることを特徴とする光ディスクの案内溝及びピット作製方法。

IPC (2)：

G11B 7/26 ,  G11B 11/10 541

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-049230
  
• 特開平2-247842
  
• 特開昭63-056830