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J-GLOBAL ID:200903094116182769
ウェットタイプの抗菌性拭取り用品
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
吉武 賢次
, 中村 行孝
, 紺野 昭男
, 横田 修孝
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002582899
Publication number (International publication number):2004529148
Application date: Apr. 19, 2002
Publication date: Sep. 24, 2004
Summary:
下記の(i)及び(ii)を含んでなるウェットタイプの抗菌性拭取り用品であって、(i)不織布基材;及び(ii)下記の(a)、(b)及び(c)を含んでなるローション:(a)下記式の第一の四級窒素化合物のローション 約0.0001重量%〜約2.0重量%:【化1】(式中、R1及びR2はC1〜C3アルキルから各々独立して選択される;R3及びR4は各々独立して、約1〜約30個の炭素原子を有する直鎖又は分枝鎖、飽和又は不飽和、置換又は非置換、環状又は非環状、脂肪族又は芳香族炭化水素基であるが、ただしR3及びR4の少なくとも1つは芳香族部分を含む;Xはハロゲン、スルフェート、アルキルスルフェート、及びそれらの混合物からなる群より選択される);(b)下記式の第二の四級窒素化合物のローション 約0.0001重量%〜約5.0重量%:【化2】(式中、R1、R2及びR3はC1〜C3アルキルから各々独立して選択される;R5は、約1〜約30個の炭素原子を有する直鎖又は分枝鎖、飽和又は不飽和、置換又は非置換、環状又は非環状、脂肪族炭化水素基である;Xはハロゲン、スルフェート、アルキルスルフェート、及びそれらの混合物からなる群より選択される);及び(c)水性キャリア該拭取り用品は、該拭取り用品が適用された表面においてグラム陽性及びグラム陰性の両細菌の個体数を実質上均等に減少させる。更に該拭取り用品及び容器を含む物品、並びに該拭取り用品を調製及び使用する方法も提供される。
Claim (excerpt):
下記の(i)及び(ii)を含んでなるウェットタイプの抗菌性拭取り用品であって、
(i)不織布基材;及び
(ii)下記の(a)、(b)及び(c)を含んでなるローション:
(a)下記式の第一の四級窒素化合物のローション 0.0001重量%〜2.0重量%:
IPC (3):
A61K7/48
, A47K7/00
, A61K7/00
FI (5):
A61K7/48
, A47K7/00 C
, A61K7/00 C
, A61K7/00 L
, A61K7/00 W
F-Term (24):
4C083AA122
, 4C083AB051
, 4C083AB052
, 4C083AC012
, 4C083AC101
, 4C083AC111
, 4C083AC112
, 4C083AC122
, 4C083AC242
, 4C083AC312
, 4C083AC442
, 4C083AC482
, 4C083AC682
, 4C083AC691
, 4C083AC692
, 4C083AC902
, 4C083AD282
, 4C083AD512
, 4C083BB48
, 4C083CC02
, 4C083CC04
, 4C083DD12
, 4C083DD23
, 4C083DD47
Patent cited by the Patent: