マスクハンドリング装置、平板投影装置、素子製造方法およびそれによって製造された素子

Inventor： , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅村皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001252721
Publication number (International publication number)：2002124463
Application date： Aug. 23, 2001
Publication date： Apr. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】本発明はマスクあるいは汚染からの保護を要するその他の要素に汚染粒子が到来しないようするマスクハンドリング装置あるいは平板投影装置において効果的であり、一方投影ビームの許容し得ない減衰を阻止する粒子遮蔽体を提供する。【解決手段】平板投影装置においては、マスクのような対象物が電磁界を利用して粒子遮蔽体によって漂遊汚染粒子から遮蔽される。前記電界は均一な電界、非均一な電界、あるいは光学ブリーズでよい。粒子遮蔽手段はマスクではなくて、マスクホルダに固定される。

Claim (excerpt)：

放射線の投影ビームを供給する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するよう作用するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、前記基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを含む平板投影装置において、遮蔽すべき対象物に粒子が入射されるのを阻止するために電磁界を発生する粒子遮蔽手段を含むことを特徴とする平板投影装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G03F 1/14 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/68

FI (7)：

G03F 1/14 M , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , H01L 21/68 A , H01L 21/68 T , H01L 21/30 503 G , H01L 21/30 515 F

F-Term (32)：

2H095BA02 , 2H095BA07 , 2H095BE12 , 2H097AA02 , 2H097AA03 , 2H097AB09 , 2H097BA04 , 2H097BA10 , 2H097CA13 , 2H097DA01 , 2H097GB01 , 2H097LA10 , 5F031CA02 , 5F031CA07 , 5F031DA12 , 5F031EA14 , 5F031EA18 , 5F031GA35 , 5F031GA37 , 5F031HA46 , 5F031HA53 , 5F031JA01 , 5F031JA45 , 5F031KA06 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031NA13 , 5F031PA23 , 5F046BA03 , 5F046CB27 , 5F046CC02 , 5F046DA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

半導体製造用露光装置およびこれを用いた半導体デバイス製造プロセス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-265688 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭62-104034
紫外線照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-195706 Applicant：株式会社ニコン

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Cited by examiner (8)

半導体製造用露光装置およびこれを用いた半導体デバイス製造プロセス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-265688 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭62-104034
紫外線照射装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-195706 Applicant：株式会社ニコン

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