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J-GLOBAL ID：200903094158050048

電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置

Inventor：
村木 真人

About 村木 真人


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997176925
Publication number (International publication number)：1999026349
Application date： Jul. 02, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】 より大きなスループットを達成できるマルチ電子ビーム型露光方法及び装置を提供する。【解決手段】 ステージを連続移動するマルチ電子ビーム型露光方法において、少なくとも1つのメインフィールドの少なくとも一つサブフィールドを露光する際、前記最小偏向幅を切り換えて露光することを決定する第1の決定段階と、メインフィールド毎の露光時間を算出する段階と、前記ステージの移動速度を、メインフィールド毎に算出した露光時間内に対応するメインフィールドを露光可能な移動速度に決定する第2の決定段階とを有する。
Claim (excerpt)：
被露光物体を載置したステージを連続移動させながら、複数の電子ビームを被露光面上を最小偏向幅を単位として偏向させ、偏向毎に各電子ビームの照射を個別に制御し、各電子ビーム毎の要素露光領域にパターンを描画することにより前記複数の要素露光領域で構成されるサブフィールドを描画し、連続移動方向と直交する方向に並んだ複数のサブフィールドを順次描画することにより前記複数のサブフィールドで構成されるメインフィールドを描画し、更に連続移動方向に並んだ複数のメインフィールドを順次描画する電子ビーム露光方法において、少なくとも1つのメインフィールドの少なくとも一つのサブフィールドを露光する際、前記最小偏向幅を切り換えて露光することを決定する第1の決定段階と、メインフィールド毎の露光時間を算出する段階と、前記ステージの移動速度を、メインフィールド毎に算出した露光時間内に対応するメインフィールドを露光可能な移動速度に決定する第2の決定段階とを有することを特徴とする電子ビーム露光方法。
IPC (5)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305
FI (6)：
H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 W
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • 特開昭62-147725
  • 特開昭54-089579
  • 特開昭61-082425
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Cited by examiner (5)
  • 特開昭62-147725
  • 特開昭54-089579
  • 特開昭61-082425
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