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J-GLOBAL ID：200903094192940320
レジスト露光方法及びその露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石井 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996286141
Publication number (International publication number)：1998112579
Application date： Oct. 07, 1996
Publication date： Apr. 28, 1998
Summary：
【要約】【課題】 パターンマスクを使用することなく、半導体デバイス等のレジストを精度よく露光する。【解決手段】 露光すべきパターンに対応したパターンデータを作成し、これを電気信号としてディジタルマイクロミラーデバイスに入力し、その複数の各微小ミラーをパターンデータに応じて傾動させる。ディジタルマイクロミラーデバイスに光を投射してその各微小ミラーからの反射光をレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光させる。
Claim (excerpt)：
電気的デバイスの製作時に、ウエハ類上に形成したレジストを露光するにあたり、露光すべきパターンに対応したパターンデータを作成し、該パターンデータを電気信号としてディジタルマイクロミラーデバイスに入力し、その複数の各微小ミラーをパターンデータに応じて傾動させ、該ディジタルマイクロミラーデバイスに光を投射してその各微小ミラーからの反射光をレジストに投影してパターンデータに対応した形状に露光させるようにしたことを特徴とするレジスト露光方法。
IPC (4)：
H05K 3/00
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
, H05K 3/06
H05K 3/00 G
, G03F 7/20 521
, H05K 3/06 Z
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 517
, H01L 21/30 519
