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J-GLOBAL ID：200903094245154593

膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜

Inventor： 杉浦 誠 ,  黒澤 孝彦 ,  後藤 幸平 ,  山田 欣司
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999104170
Publication number (International publication number)：2000299317
Application date： Apr. 12, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】 密着性、塗膜の均一性、誘電率特性等に優れた膜形成用組成物、該組成物を硬化して得られる膜を得る。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表される化合物の加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方 R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)(B)界面活性剤、(C)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される化合物の加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)(B)界面活性剤(C)前記(A)成分に相溶または分散し、沸点または分解温度が250〜450°Cである化合物を含むことを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (4)：

H01L 21/316 ,  C09D183/04 ,  C23C 16/24 ,  C23C 16/44

FI (4)：

H01L 21/316 G ,  C09D183/04 ,  C23C 16/24 ,  C23C 16/44 A

F-Term (17)：

4J038CG142 ,  4J038DF022 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038GA15 ,  4J038KA06 ,  4J038KA09 ,  4J038NA12 ,  4J038NA17 ,  4J038PA19 ,  5F058AA03 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH01 ,  5F058AH02