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J-GLOBAL ID：200903094251886709
拡大ビーム領域形成単一モードファイバの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉村 暁秀 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991323222
Publication number (International publication number)：1993155642
Application date： Dec. 06, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：
【要約】【目的】 単一モードファイバの長さ方向に沿って所定の間隔で、この間隔よりも充分に短い所定の長さの部分を高温加熱し、周期的にビームサイズの拡大領域を長尺にわたって連続形成する拡大ビーム領域形成単一モードファイバの製造方法を提供することにある。【構成】 光ファイバプリフォームの線引き工程により、クラッド外周表面へ薄膜カーボンを全長にわたって成膜形成した高強度単一モード光ファイバ(2-3) を、所定の間隔Lを設けてこの間隔Lよりも充分に小さい所定の長さの範囲を、千数百°Cに所定の時間加熱して、部分的に該単一モードファイバ固有のビームサイズよりも大きなビームサイズを有するビームサイズ拡大領域(2-4) を周期的に形成する拡大ビーム領域形成単一モードファイバの製造方法である。
Claim (excerpt)：
光ファイバプリフオームの線引き工程により、クラッド外周表面へ薄膜カーボンを全長にわたって成膜形成した高強度単一モード光ファイバを、所定の間隔を設けてこの間隔よりも充分に小さい所定の長さの範囲を、千数百°Cに所定の時間加熱して、部分的に該単一モードファイバ固有のビームサイズよりも、大きなビームサイズを有するビームサイズ拡大領域を周期的に形成することを特徴とする拡大ビーム領域形成単一モードファイバの製造方法。
IPC (5)：
C03C 25/02
, C03B 37/14
, G02B 6/10
, G02B 6/16 321
, G02B 6/44 301
