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J-GLOBAL ID:200903094258732111

局部洗浄装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 西川 惠清 ,  森 厚夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003181178
Publication number (International publication number):2005016113
Application date: Jun. 25, 2003
Publication date: Jan. 20, 2005
Summary:
【課題】少ない水量であっても効果的に広い範囲の洗浄をおこなう。【解決手段】洗浄水を噴出する噴出口1を上面に開口させた洗浄ノズル2を備えた局部洗浄装置である。噴出口1の直下の水路部分に横断面積が噴出方向に対して連続的に減少する振動用水路部3を形成している。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
洗浄水を噴出する噴出口を上面に開口させた洗浄ノズルを備えた局部洗浄装置であって、噴出口の直下の水路部分に横断面積が噴出方向に対して連続的に減少する振動用水路部を形成していることを特徴とする局部洗浄装置。
IPC (2):
E03D9/08 ,  B05B1/34
FI (2):
E03D9/08 D ,  B05B1/34
F-Term (9):
2D038JA02 ,  2D038JA03 ,  4F033AA04 ,  4F033BA02 ,  4F033BA04 ,  4F033CA14 ,  4F033DA02 ,  4F033EA01 ,  4F033NA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
  • 特開平4-018950
  • 局部洗浄装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-023612   Applicant:日立化成工業株式会社
  • 特開平1-214630
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Cited by examiner (8)
  • 特開平4-018950
  • 特開平1-313048
  • 人体局部洗浄装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-215231   Applicant:松下電器産業株式会社
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