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J-GLOBAL ID:200903094264556465

有機ケイ素化合物からなる多孔質膜及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須田 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000298932
Publication number (International publication number):2002105205
Application date: Sep. 29, 2000
Publication date: Apr. 10, 2002
Summary:
【要約】【課題】 1.5〜2.5の低誘電率を有し、クラックのない多孔質膜を得る。【解決手段】 有機ケイ素化合物からなる多孔質膜は、ペルフルオロアルキル基を含む多面体構造を有する有機ケイ素化合物からなる膜内部に空隙を有し、この空隙の平均孔径が0.1〜100nmの微細孔であり、1.5〜2.5の誘電率を有する。この多孔質膜は有機ケイ素化合物を多孔質化剤を溶解した溶液に添加混合して分散液を調製し、この分散液を基板にコーティングし、コーティング膜を形成した後、コーティング膜から多孔質化剤を気化又は分解させることにより微細孔を生じさせることにより作られる。別法として、有機ケイ素化合物を溶媒に添加混合した液に粒子状多孔質化剤を分散し、この分散液を基板にコーティングし、コーティング膜を形成した後、基板を熱処理することにより粒子状多孔質化剤の粒子間に空隙を生じさせる。
Claim (excerpt):
ペルフルオロアルキル基を含む多面体構造を有する有機ケイ素化合物からなる膜内部に空隙を有する多孔質膜であって、1.5〜2.5の誘電率を有することを特徴とする有機ケイ素化合物からなる多孔質膜。
IPC (6):
C08G 77/24 ,  B29C 67/20 ,  C08G 77/44 ,  C09D183/08 ,  H01L 21/312 ,  H01M 2/16
FI (6):
C08G 77/24 ,  B29C 67/20 Z ,  C08G 77/44 ,  C09D183/08 ,  H01L 21/312 C ,  H01M 2/16 P
F-Term (62):
4F212AA33 ,  4F212AB02 ,  4F212AG20 ,  4F212UA17 ,  4F212UB01 ,  4F212UC05 ,  4F212UC10 ,  4F212UF01 ,  4F212UF06 ,  4F212UF21 ,  4F212UG07 ,  4J035BA12 ,  4J035CA15N ,  4J035CA151 ,  4J035EA01 ,  4J035GA01 ,  4J035GA05 ,  4J035GB08 ,  4J035HA03 ,  4J035LB20 ,  4J038DL071 ,  4J038GA01 ,  4J038GA07 ,  4J038GA09 ,  4J038GA11 ,  4J038GA13 ,  4J038HA446 ,  4J038JA17 ,  4J038JA25 ,  4J038JA33 ,  4J038JB16 ,  4J038JB21 ,  4J038JB23 ,  4J038JC12 ,  4J038JC14 ,  4J038JC24 ,  4J038JC25 ,  4J038KA06 ,  4J038KA22 ,  4J038LA02 ,  4J038LA03 ,  4J038LA05 ,  4J038LA06 ,  4J038NA20 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AG09 ,  5F058AH02 ,  5H021BB01 ,  5H021BB09 ,  5H021BB12 ,  5H021BB13 ,  5H021BB15 ,  5H021EE10 ,  5H021EE20 ,  5H021EE22 ,  5H021HH00 ,  5H021HH02 ,  5H021HH03 ,  5H021HH06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 多孔質膜、その製造法及び物品
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-023140   Applicant:日立化成工業株式会社, 旭硝子株式会社
  • 多孔質膜
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-135785   Applicant:ジェイエスアール株式会社

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