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J-GLOBAL ID：200903094308138453

シリカ系被膜形成用組成物

Inventor： 遠田 淳
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994163721
Publication number (International publication number)：1996027422
Application date： Jul. 15, 1994
Publication date： Jan. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】 組成物としての保存安定性が良好で、さらにこれを用いることにより厚膜であり透明でクラックがなく表面硬度の高いシリカ被膜に関する。【構成】 A.テトラメトキシシランとアルキルトリメトキシシランからなる部分加水分解物、B.脂肪族一価のアルコール、C.水、及びD.pKaが1.0を超えてかつ5.0以下の有機カルボン酸を必須成分とするシリカ系被膜形成組成物。

Claim (excerpt)：

A.テトラメトキシシランとアルキルトリメトキシシランからなる部分加水分解物、B.脂肪族一価のアルコール、C.水、及びD.pKaが1.0を超えてかつ5.0以下の有機カルボン酸を必須成分とするシリカ系被膜形成用組成物。

IPC (2)：

C09D183/02 PMP ,  C09D183/04 PMT

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-045510
  
• 特開平4-108881
  
• 特開平3-045510
  
• 特開平4-108881