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J-GLOBAL ID：200903094318649359

光強度シミュレーション装置および光強度シミュレーション方法並びに光強度シミュレーションプログラムを記録した記録媒体

Inventor： 福島 祐一
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998137227
Publication number (International publication number)：1999327120
Application date： May. 19, 1998
Publication date： Nov. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 膨大な量のマスクパターンのシミュレーションを効率よく行うとともに、複数の演算処理プロセッサを活かして最適化した並列処理が行える光強度シミュレーション装置および方法、並びに、光強度シミュレーションプログラムを記録した記録媒体を提供すること。【解決手段】 入力装置8から入力されたパターンデータが、所定量を超えた場合、コントロールプロセッサ1は、上記入力されたパターンデータによって表されるマスクパターンを複数の領域に分割し、演算処理プロセッサ群7の各演算処理プロセッサの各々に、分割したマスクパターン領域毎の光強度シミュレーション計算を実行させ、その結果を合成してモニタ9およびプリンタ10等へ出力する。

Claim (excerpt)：

フォトマスクパターンのパターンデータと、該フォトマスクパターンの露光工程における各種光学条件をパラメータ化した光学条件パラメータに基づいて、前記フォトマスクパターンをウェハ上に露光転写した時の投影光学像の光強度分布をシミュレーション結果として求める光強度シミュレーション装置において、前記パターンデータおよび光学条件パラメータを入力するデータ入力手段と、前記入力されたパターンデータ量、および、前記パターンデータによって表されるフォトマスクパターン領域の面積に応じて、該フォトマスクパターン領域を複数の領域に分割し、該分割した各領域に対応して前記パターンデータを分割するパターン領域分割手段と、複数の演算処理プロセッサを有し、各演算処理プロセッサにおいて、前記分割手段によって分割された各領域毎のパターンデータ、および、前記光学条件パラメータに基づいて、それぞれシミュレーション結果を並列処理することにより求める並列処理手段と、前記並列処理手段によって得られた各シミュレーション結果を合成し、前記入力されたパターンデータと、光学条件パラメータとに基づく光強度シミュレーション結果を求めるシミュレーション結果算出手段とを有することを特徴とする光強度シミュレーション装置。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G06F 17/00 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A ,  G06F 15/20 D ,  H01L 21/30 502 G