Pat
J-GLOBAL ID：200903094325277254

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

Inventor：
原田 由香子

About 原田 由香子

, 
武元 一樹

About 武元 一樹

, 
戸石 好治

About 戸石 好治


Applicant, Patent owner：
住友化学株式会社

About 住友化学株式会社


Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006093734
Publication number (International publication number)：2006306856
Application date： Mar. 30, 2006
Publication date： Nov. 09, 2006
Summary：
【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。(式中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、環Yは炭素数3〜30の単環式または多環式炭化水素基を表し、環構造中にエステル結合を有する。nは0〜12の整数を表し、A+は有機対イオンを表す。式中の環Yは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基又はシアノ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。)【選択図】なし
Claim (excerpt)：
式(I)で示されることを特徴とする塩。
IPC (8)：
C07D 307/00 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12 ,  C08L 101/00 ,  C08K 5/42 ,  C07C 309/17
FI (9)：
C07D307/00 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12 ,  C08L101/00 ,  C08K5/42 ,  C07C309/17
F-Term (24)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  4C037AA02 ,  4C037UA03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB48 ,  4H006AB92 ,  4J002BC121 ,  4J002BG011 ,  4J002BG071 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002EV256 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • ポジ型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039501   Applicant：住友化学工業株式会社
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM