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J-GLOBAL ID：200903094344183708

反射防止膜形成用塗布液および反射防止膜付基材

Inventor： 吉 留 博 雄 ,  西 田 広 泰 ,  小 松 通 郎
Applicant, Patent owner： 触媒化成工業株式会社
Agent (1)： 鈴木 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994150966
Publication number (International publication number)：1996012902
Application date： Jul. 01, 1994
Publication date： Jan. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 反射防止性能に優れた反射防止膜が簡単な工程で安価に基材表面に形成できるような反射防止膜形成用塗布液、およびこのような塗布液から得られた反射防止膜を有する反射防止膜付基材を提供する。【構成】 平均粒径D1 が大きく、屈折率n1 が大きな微粒子P1 と、平均粒径D2 が小さく、屈折率n2 が小さな微粒子P2 と、被膜形成成分Fとを含有してなり、D1 /D2 ≧3、かつn1 >n2 である反射防止膜形成用塗布液、およびこの塗布液から形成された反射防止膜を基材上に有する反射防止膜付基材。

Claim (excerpt)：

平均粒径D1 が大きく、屈折率n1 が大きな微粒子P1 と、平均粒径D2 が小さく、屈折率n2 が小さな微粒子P2 と、被膜形成成分Fとを含有してなり、D1 /D2 ≧3n1 >n2であることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。

IPC (2)：

C09D 5/00 PPQ ,  C09D 7/12 PSK

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-204601