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J-GLOBAL ID：200903094351527510
レジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993051465
Publication number (International publication number)：1994242602
Application date： Feb. 17, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：
【要約】【構成】 下記式(1)で示される1又は2以上の繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が1000〜10000であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を水素一原子当り0.03〜0.27モルの割合で1,2-ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂及び感光剤として使用したことを特徴とするレジスト組成物。【化1】(但し、nは1〜4の整数、mは0〜3の整数を示す。)【効果】 本発明のレジスト組成物は、ノボラック樹脂と感光剤とが均一に混ざり合った状態で組成に均一であり、均一なレジスト膜を形成し得ると共に、高感度・高解像度で、耐熱性、残膜性に優れたポジ型レジストとして好適に使用し得る。
Claim (excerpt)：
下記式(1)で示される1又は2以上の繰り返し単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量が1000〜10000であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を水素一原子当り0.03〜0.27モルの割合で1,2-ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換したノボラック樹脂をアルカリ可溶性樹脂及び感光剤として使用したことを特徴とするレジスト組成物。【化1】(但し、nは1〜4の整数、mは0〜3の整数を示す。)
IPC (3)：
G03F 7/023 511
, G03F 7/023 501
, H01L 21/027
Cited by examiner (7)
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