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J-GLOBAL ID：200903094371545786

フォトマスク

Inventor：
端 庸児

About 端 庸児


Applicant, Patent owner：
ユー・エム・シー・ジャパン株式会社

About ユー・エム・シー・ジャパン株式会社


Agent (7)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002220420
Publication number (International publication number)：2004061884
Application date： Jul. 29, 2002
Publication date： Feb. 26, 2004
Summary：
【課題】帯電による静電破壊やマスクパターンの崩壊を防止したフォトマスクを提供する。【解決手段】基板11上に遮光材料からなるマスクパターン12を有したフォトマスク10である。マスクパターン12が透光性の導電性ポリマーからなる導電膜13によって被覆されている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基板上に遮光材料からなるマスクパターンを有したフォトマスクにおいて、 前記マスクパターンが透光性の導電性ポリマーによって被覆されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2)：
G03F1/14 ,  H01L21/027
FI (2)：
G03F1/14 E ,  H01L21/30 502P
F-Term (3)：
2H095BC16 ,  2H095BC19 ,  2H095BC20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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